什么是光刻机，原理是什么
光刻机可以理解成是微电子领域用的类似摄影用底片制作照片的机械。本人微电子上市公司的工程师，有朋友修理光刻机的也有朋友修理制版设备的工程师。其工作原理就是首先对硅片涂保护层，一般是氧化层，然后涂光刻胶，通过光刻板有选择地对硅片曝光，然后通过化学手段清除需要清除的部分留下保护层，最后再通过化学手段将没有受到光刻胶保护的氧化层清除得到一个氧化层的保护膜的图形。这就算完成了一次光刻工序。一个集成电路或者晶体管需要多次光刻：刻出留给扩散的窗口、留给布线的窗口，留给键合引线的窗口包括各个器件之间绝缘的窗口等等。一片硅片制造成功集成电路需要至少数次甚至几十次光刻才能实现
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